ໃນອຸດສາຫະກໍາເຊັ່ນ microelectronics, optoelectronics ແລະ biopharmaceuticals,annealing ສົດໃສ(ປ.) (ປ.) ການດອງຫຼື passivation (AP),ການຂັດດ້ວຍໄຟຟ້າ (EP)ແລະການປິ່ນປົວຂັ້ນສອງສູນຍາກາດໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ໂດຍທົ່ວໄປສໍາລັບລະບົບທໍ່ທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະສະອາດທີ່ຖ່າຍທອດສື່ທີ່ລະອຽດອ່ອນຫຼື corrosive. ຜະລິດຕະພັນທີ່ລະລາຍ (VIM+VAR).
A. ຂັດດ້ວຍໄຟຟ້າ (ໄຟຟ້າຂັດ) ເອີ້ນວ່າ EP. ໂດຍຜ່ານການຂັດ electrochemical, morphology ດ້ານແລະໂຄງສ້າງສາມາດໄດ້ຮັບການປັບປຸງຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ, ແລະພື້ນທີ່ຕົວຈິງສາມາດຫຼຸດລົງໃນລະດັບໃດຫນຶ່ງ. ພື້ນຜິວເປັນແຜ່ນໂຄມຽມອອກຊິເຈນທີ່ປິດ, ຫນາ, ພະລັງງານແມ່ນຢູ່ໃກ້ກັບລະດັບປົກກະຕິຂອງໂລຫະປະສົມ, ແລະປະລິມານຂອງສື່ແມ່ນຫຼຸດລົງ - ປົກກະຕິແລ້ວເຫມາະສົມສໍາລັບຊັ້ນເອເລັກໂຕຣນິກ.ທາດອາຍຜິດຄວາມບໍລິສຸດສູງ.
B. Bright Annealing (Bright Annealing) ແມ່ນເອີ້ນວ່າ BA. ການປິ່ນປົວຄວາມຮ້ອນໃນອຸນຫະພູມສູງໃນລັດ hydrogenation ຫຼືສູນຍາກາດ, ໃນອີກດ້ານຫນຶ່ງ, ກໍາຈັດຄວາມກົດດັນພາຍໃນ, ແລະອີກດ້ານຫນຶ່ງ, ປະກອບເປັນຮູບເງົາ passivation ໃນດ້ານຂອງທໍ່ເພື່ອປັບປຸງໂຄງສ້າງ morphological ແລະຫຼຸດຜ່ອນລະດັບພະລັງງານ, ແຕ່ບໍ່ໄດ້. ເພີ່ມຄວາມຫຍາບຂອງພື້ນຜິວ – ປົກກະຕິແລ້ວແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບ GN2 , CDA, ແລະທາດອາຍຜິດ inert ທີ່ບໍ່ແມ່ນຂະບວນການ.
C. Pickled & Passivated/Chemically Polished (Pickled & Passivated/Chemically Polished) ເອີ້ນວ່າ AP ແລະ CP. ການຂຸດຫຼື passivation ຂອງທໍ່ຈະບໍ່ເພີ່ມຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງຫນ້າດິນ, ແຕ່ມັນສາມາດເອົາອະນຸພາກທີ່ຍັງເຫຼືອຢູ່ດ້ານຫນ້າແລະຫຼຸດຜ່ອນລະດັບພະລັງງານ, ແຕ່ມັນຈະບໍ່ຫຼຸດລົງຈໍານວນຂອງ interlayers - ປົກກະຕິແລ້ວໃຊ້ໃນທໍ່ຊັ້ນອຸດສາຫະກໍາ.
D. ສູນຍາກາດການລະລາຍຂັ້ນສອງທໍ່ທີ່ສະອາດ Vim (Vacuum Induction Melting) + Var (Vacuum ArcRemelting), ເອີ້ນວ່າ V+V, ແມ່ນຜະລິດຕະພັນຂອງບໍລິສັດໂລຫະ Sumitomo. ມັນໄດ້ຖືກປຸງແຕ່ງອີກເທື່ອຫນຶ່ງພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂ arc ຢູ່ໃນສະພາບສູນຍາກາດ, ເຊິ່ງປະສິດທິຜົນປັບປຸງການຕໍ່ຕ້ານ corrosion ແລະຄວາມຫນາແຫນ້ນຂອງຫນ້າດິນ. ລະດັບ - ໂດຍປົກກະຕິແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບອາຍແກັສອີເລັກໂທຣນິກທີ່ມີຄວາມບໍລິສຸດສູງ corrosive, ເຊັ່ນ: BCL3, WF6, CL2, HBr, ແລະອື່ນໆ. 
ເວລາປະກາດ: 08-08-2024